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采用直流磁控溅射法在Si(100)衬底上制备了一组工艺参数不同的纳米银(Ag)薄膜,用原子力显微镜(AFM)观察了表面形貌,分析了衬底温度、工作气压等工艺参数对Ag薄膜表面粗糙度的影响。结果表明：随着衬底温度从室温增大到593 K,折射率n逐渐减小。
磁控溅射制备纳米银膜的微结构及光学常数研究
【摘 要】
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采用直流磁控溅射法在Si(100)衬底上制备了一组工艺参数不同的纳米银(Ag)薄膜,用原子力显微镜(AFM)观察了表面形貌,分析了衬底温度、工作气压等工艺参数对Ag薄膜表面粗糙
【机 构】
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苏州科技学院数理学院,江苏苏州215009
【出 处】
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第十二届全国敏感元件与传感器学术会议
【发表日期】
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2012年期
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