Epi Reactor PE 3061 D

来源 :2011上海半导体材料学术年会 | 被引量 : 0次 | 上传用户:xpzcz1988
下载到本地 , 更方便阅读
声明 : 本文档内容版权归属内容提供方 , 如果您对本文有版权争议 , 可与客服联系进行内容授权或下架
论文部分内容阅读
Epitaxial Reactor ClassificationEpi Reactor PE 3061D■ wafer quality comparable to SWR(application overlaps)■ CoO comparable tobatch reactors ■ thick film deposition capabilityEpi reactor PE 3061D :Wide Applications RangeThinfilms Epi applications.(Epi Layer:5u)New discrete generation (Epi Layer 20 to 80u)GBT devices.(Double Epi Layer up to 180u)ntegrated Circuitits
其他文献
  探讨肾康注射液(Shenkang injection,SKI)在体内调控细胞外信号调节激酶(extracellular-signal regulated protein kinase,ERK)1/2/基质金属蛋白酶(matrixmetalloprotein
会议
通过对阜阳地区古城1井烃源岩样品进行分析研究,对其进行生烃潜力综合评价,分析结果表明:阜阳地区古城1井烃源岩有机质丰度总体偏低;有机质类型以偏腐殖型为主,部分属于混合
会议
LOW COST HIGH PRODUCTIVITY Seed diameter up to 100mm Temperature: 2000-2400℃ Growth Pressure: 10-400 mbar Carrier Gas: He/H2/Ar-flow: 5slm N-type doping (N2)-f
会议
公司总部地理位置企业基本情况■成立时间: 2001.12■股份制改造: 2008.7.11■注册资本: 15,000万元■职工总数: 506人(金坛公司)■信用(合同)等级: AAA■ISO9001质量体系认
会议