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气袋靶主体由一个金属支撑环和两片很薄的塑料薄膜构成，聚酰亚胺薄膜由于其抗张强度大，当薄膜转变为等离子体时对腔内产生的影响较小等优点成为最理想的薄膜材料。但气袋靶所需要的聚酰亚胺薄膜较薄，随着薄膜厚度的增加，产生的不利影响也增大。然而商用的聚酰亚胺薄膜的厚度则是几十甚至几百微米，不能满足ICF的要求。鉴于此，本文作者通过联苯四羧酸(BPDA)和对苯二胺((PDA)在低温下制备了聚酰胺酸溶液，再通过提拉法和高温酰亚胺化制备了符合ICF(惯性约束聚变)要求的厚度为400nm的亚微米级薄膜。现将该薄膜的具体制备过程进行介绍，并讨论了性能。