利用等离子体聚合的方法,大面积制钥有机硅薄膜

来源 :中国核学会核聚变与等离子体应用学术讨论会 | 被引量 : 0次 | 上传用户:benben8383
下载到本地 , 更方便阅读
声明 : 本文档内容版权归属内容提供方 , 如果您对本文有版权争议 , 可与客服联系进行内容授权或下架
论文部分内容阅读
利用等离子体聚合方法制备有机硅薄膜,所制备的薄膜具有低的表面自由能,耐磨和抗腐蚀。
其他文献
会议
该文扼要地综述了目前新加速器原理的发展现状,简述了激光差拍 等离子体加速器的原理及其研究方案,该文对等离子体发生器在等离子体差拍波加速原理的探索研究中的作用进行了。
等离子体聚合技术,是一种新颖的薄膜制作技术。用等离子体聚合的有机硅薄膜常有较高的透明度和较好的耐化学性和耐磨性。该文对六甲基二硅胺烷的等离子体聚合条件进行了探索,并
为了实现装置工艺参数的可重复性,并有效掏设备运行过程中由射频源、微波源、金属源和高压脉冲电源产生的种种上电磁干扰对设备性能及人身安全的影响,开发了一套计算机控制系统
该文综述了80年代发展起来的一种新型的用于材料表面改性的离子注入新技术-等离子体浸没离子注入(PIII),待处理的材料直接浸泡在等离子体中进行处理。该技术保留了常规束线离子