切换导航
文档转换
企业服务
Action
Another action
Something else here
Separated link
One more separated link
vip购买
不 限
期刊论文
硕博论文
会议论文
报 纸
英文论文
全文
主题
作者
摘要
关键词
搜索
您的位置
首页
会议论文
利用等离子体聚合的方法,大面积制钥有机硅薄膜
利用等离子体聚合的方法,大面积制钥有机硅薄膜
来源 :中国核学会核聚变与等离子体应用学术讨论会 | 被引量 : 0次 | 上传用户:benben8383
【摘 要】
:
利用等离子体聚合方法制备有机硅薄膜,所制备的薄膜具有低的表面自由能,耐磨和抗腐蚀。
【作 者】
:
王东宝
陈思光
【机 构】
:
印刷学院应用物理研究室
【出 处】
:
中国核学会核聚变与等离子体应用学术讨论会
【发表日期】
:
1998年7期
【关键词】
:
等离子体聚合方法制备方法
制备
有机硅薄膜
耐磨
抗腐蚀
下载到本地 , 更方便阅读
下载此文
赞助VIP
声明 : 本文档内容版权归属内容提供方 , 如果您对本文有版权争议 , 可与客服联系进行内容授权或下架
论文部分内容阅读
利用等离子体聚合方法制备有机硅薄膜,所制备的薄膜具有低的表面自由能,耐磨和抗腐蚀。
其他文献
等离了技术与应用
会议
技术
采用等离子加热技术控制中间罐内钢水温度
会议
等离子加热
技术控制
罐内
等离子体加热气流中新型高热流量热计研制
会议
等离子体加热气流
热流密度
高热流量
等离子体发生器装置的研制
该文扼要地综述了目前新加速器原理的发展现状,简述了激光差拍 等离子体加速器的原理及其研究方案,该文对等离子体发生器在等离子体差拍波加速原理的探索研究中的作用进行了。
会议
等离子体发生器
加速原理
装置
加速器
组装调试
轴向磁场
性能参数
探索研究
试验研究
发展现状
参数设计
差拍波
综述
直径
气压
密度
激光
透明有机硅(HMDSN)的等离子体聚合及其光学性质
等离子体聚合技术,是一种新颖的薄膜制作技术。用等离子体聚合的有机硅薄膜常有较高的透明度和较好的耐化学性和耐磨性。该文对六甲基二硅胺烷的等离子体聚合条件进行了探索,并
会议
有机硅薄膜
等离子体
聚合条件
六甲基二硅胺烷
薄膜制作技术
耐化学性
力学性能
聚合技术
透明度
耐磨性
光学
测量
PSII的计算机监控系统
为了实现装置工艺参数的可重复性,并有效掏设备运行过程中由射频源、微波源、金属源和高压脉冲电源产生的种种上电磁干扰对设备性能及人身安全的影响,开发了一套计算机控制系统
会议
等离子体浸没
离子注入
计算机控制
等离子体浸没离子注入(PIII)技术在现代材料表面改性中的应用及发展
该文综述了80年代发展起来的一种新型的用于材料表面改性的离子注入新技术-等离子体浸没离子注入(PIII),待处理的材料直接浸泡在等离子体中进行处理。该技术保留了常规束线离子
会议
等离子体浸没离子注入
新技术
材料表面改性
束线离子注入
应用及发展
处理
综述
系统
浸泡
多层聚合物空心微球的研制
会议
多层
聚合物
等离子体聚合法制备湿敏材料
会议
等离子体
聚合
法制
聚乙烯薄膜的等离子体聚合表面改性
会议
聚乙烯薄膜
等离子体
聚合
与本文相关的学术论文