论文部分内容阅读
本论文采用实验室最新设计研制的FDJ600型高真空多功能沉积设备通过离子束溅射以及射频感应耦合(inductively coupled plasma, ICP)化学气相沉积等方法,在单晶硅(111)基底上沉积了DLC超薄膜以及掺硅的DLC超薄膜。针对不同的沉积条件对超薄膜的摩擦学性能进行了研究。一、离子束溅射法制备DLC超薄膜的结构和摩擦学性能研究采用实验室最新设计研制的FDJ600型高真空多功能沉积设备通过离子束溅射方法在较低温度下在单晶硅(111)基底上沉积了DLC薄膜,对不