提高光敏基团的脱保护效率是光脱保护法制备生物芯片技术中的一个关键环节。在一个特定的低光强度下，可行的方法之一是使用光敏剂。　　运用9H-噻吨-9-酮(TX)作为光敏剂，利用其三线态能量对保护基团的脱保护，在合成DNA芯片中保护羟基，可以一定程度地提高脱保护效率，但运用于PNA芯片的合成中效果并不理想。本文克服芘及其衍生物只能用作荧光标记试剂等的常规思维，将芘及其衍生物作为光导向原位合成法制备生物芯片过程中光敏基团脱保护的增敏试剂。该类试剂一方面可以吸收一定波长的紫外光，把能量传递给光敏基团;另一方面受一定紫外光激发能产生与该紫外光波长相近的荧光，该荧光能对光敏基团提供二次曝光，加速光敏基团脱保护的速率。　　合适的光敏溶剂也是提高光脱保护效率的重要因素，本文在采用芘及芘的衍生物作为光敏剂基础上，优化光敏混合溶液中各种溶剂比例，最终提高了光脱保护率，为弱光强下的光敏基团脱保护提供了新的思路，在未来具有广阔的前景。