法布里—珀罗干涉腔已在高分辨率光谱仪、激光谐振腔、高光谱调谐选择器、光学双稳态元件等方面得到广泛运用,但低应力的宽波段多层介质反射膜的研制依然是法布里—珀罗干涉腔的主要技术难点之一。膜层中存在的应力会对基片的平面度产生较大的影响,过大的薄膜应力甚至可以使高精度的光学平行平板加工前功尽弃。因而,法布里—珀罗干涉腔中的反射膜在满足光学性质要求的同时,还要兼顾应力的影响。本论文先从多光束干涉的基本原理出发,阐述法布里—珀罗干涉腔的基本结构,分析反射膜的光学性能对干涉腔中条纹精细度、自由光谱范围、透过率等方面的影响。然后从应力的产生和表现说明薄膜应力对干涉腔的影响,并详细分析其影响因素和测量方法。利用电子束蒸发离子辅助的真空镀膜方法将TiO2、SiO2等薄膜材料分别沉积在K9、石英玻璃上测得其光学常数和薄膜应力。由实验结果可知,Ti02和Si02沉积在石英玻璃基片上时分别呈现出张应力与压应力,两者作为高、低折射率材料用在宽波段多层介质反射膜中时,可有效优化膜层应力。因此,本文以TiO2和Si02为薄膜材料,石英玻璃为基底,设计出了三种600-900nm波长范围内反射率为92.5%的膜系结构。同时为了使膜层应力接近于零,提出在基底背面镀制Si02单层增透膜以抵消反射膜应力的方法,为镀制低应力的宽波段高反射介质多层膜提供了合理的解决方案。