ITO薄膜的制备与研究及其在HIT太阳电池上的应用

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【摘要】

：

本文采用中频脉冲磁控溅射工艺(Mid-Frequency Pulsed Magnetron Sputtering)，选用纯度99.999%的氧化铟锡陶瓷靶，在玻璃衬底上制备ITO薄膜，研究了工艺参数对ITO薄膜性能的影响，并利用反射式薄膜厚度测试系统、X射线衍射分析、表面形貌分析、标准四探针测试仪及太阳能电池光谱性能测试系统，对所制备的薄膜的膜厚、晶体结构、表面形貌及光电性能进行了测试，此外，还将

【作者】

：

温迪

【机构】

：

河北工业大学

【发表日期】

：

2014年01期

【关键词】

：

中频脉冲磁控溅射 ITO薄膜透明前电极 HIT太阳电池

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