二氧化钛是一种重要的无机功能材料，由于具有着较高折射率和抗磨损性，对光的吸收、反射、干涉、衍射和色散等，制备成本低、无毒等特点，使其在光学薄膜的制备中得到广泛的应用，由于二氧化钛的禁带宽度较宽和相对坚固性，人们喜欢把这种材料用于可见光或近红外线区域。　　本论文以纯钛为靶材，普通玻璃为基体，氩气和氧气为工作气体，采用射频磁控溅射法制备二氧化钛薄膜，并采用X射线衍射仪(XRD)、紫外可见光光度计(UV-is)、光致发光光谱仪(PL)对所制备的薄膜进行了结构与光学性质的表征。研究结果表明:制备条件的变化均会导致薄膜晶体结构与光学性质发生改变;所制得二氧化钛薄膜均为锐钛矿相，择优取向为(101)、(200)晶面，透过率均在75％以上，并且二氧化钛薄膜的结晶性随溅射压强、氩气流量、溅射功率、以及负片压的增大均为先增强后减弱，紫外吸收边先蓝移后红移，禁带宽度先变窄后变宽。靶基距与溅射时间的增加导致薄膜结晶性变强，紫外吸收边蓝移，禁带宽度变宽，对不同制备条件的薄膜进行了光致发光测试，比较不同气体组分，不同溅射功率薄膜对光致发光激发光波长及激发光强度的影响。