【摘 要】
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以高纯石墨做靶、氩气(Ar)和三氟甲烷(CHF3)为源气体,采用射频反应磁控溅射法在不同射频功率和流量比条件下制备了氟化类金刚石(F-DLC)薄膜。利用原子力显微镜、纳米压痕、拉曼光谱、红外光谱和摩擦磨损测试仪对薄膜的表面形貌、硬度、键态结构以及摩擦性能做了具体分析。摩擦测试结果表明,制备的薄膜整体均匀致密,薄膜的摩擦系数最小可达0.4左右,表现出了良好的减摩性能。AFM和纳米压痕显示,薄膜摩擦系
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以高纯石墨做靶、氩气(Ar)和三氟甲烷(CHF3)为源气体,采用射频反应磁控溅射法在不同射频功率和流量比条件下制备了氟化类金刚石(F-DLC)薄膜。利用原子力显微镜、纳米压痕、拉曼光谱、红外光谱和摩擦磨损测试仪对薄膜的表面形貌、硬度、键态结构以及摩擦性能做了具体分析。摩擦测试结果表明,制备的薄膜整体均匀致密,薄膜的摩擦系数最小可达0.4左右,表现出了良好的减摩性能。AFM和纳米压痕显示,薄膜摩擦系数受表面粗糙度和硬度影响,表面粗糙度较小,硬度较大的薄膜往往具有相对较小的摩擦系数,但并非呈单调对应关系
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