【摘 要】
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采用射频磁控溅射法制备了二氧化钛(TiO_2)纳米薄膜,厚度约为150nm。制备出的薄膜在大气环境下进行了等时(0.5h)变温(200℃,400℃,600℃,800℃,1000℃,1200℃)热处理;对0.5h退火的样品在相应的温度下再分别进行退火1h的热处理,退火1h的样品用来测试薄膜的XPS和AFM特性。用X射线衍射仪(XRD)、原子力显微镜(AFM)、X射线光电子能谱仪(XPS)、紫外-可见
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采用射频磁控溅射法制备了二氧化钛(TiO_2)纳米薄膜,厚度约为150nm。制备出的薄膜在大气环境下进行了等时(0.5h)变温(200℃,400℃,600℃,800℃,1000℃,1200℃)热处理;对0.5h退火的样品在相应的温度下再分别进行退火1h的热处理,退火1h的样品用来测试薄膜的XPS和AFM特性。用X射线衍射仪(XRD)、原子力显微镜(AFM)、X射线光电子能谱仪(XPS)、紫外-可见光分光光度计(UV-Vis)、荧光光谱仪和四探针测试仪等测试手段分别对薄膜的微结构、化学组分和光电特性进
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