【摘 要】
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实验上研究He在金属中的行为时,常用He离子注入的方法获得含He样品,然而常规He注入的方法存在注入损伤和He分布局域化、不均匀等问题.该文研究了两种等离子体辅助沉积含氦钛
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实验上研究He在金属中的行为时,常用He离子注入的方法获得含He样品,然而常规He注入的方法存在注入损伤和He分布局域化、不均匀等问题.该文研究了两种等离子体辅助沉积含氦钛膜的方法,一种是在氦的电子回旋共振(ECR)产生的等离子体气氛中用脉冲激光沉积(PLD)含氦钛膜,另一种是掺入氦气放电的磁控溅射沉积含氦钛膜.两种方法均是在钛膜沉积过程中进行He的引入,实现了较大量的He在膜内均匀体分布,引入的He量可由沉积参量调节.实验结果表明,两种方法中He引入机制均是载能He粒子注入,但在第一种方法中起主要作用的是He离子,第二种方法中是He原子起主要作用.其中第一种方法通过控制衬底偏压可以实现低于阈值能量的He注入.样品的表面形貌、微结构等也进行了分析,可以观察到注入引起的样品表面鼓泡现象,X射线衍射(XRD)结果表明较大量的He的引入使膜结构趋向无定形化,透射电镜(TEM)可观测到膜中的He泡.
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