磁记录纳米摩擦学是纳米摩擦学研究的一个重要应用。磁头/磁盘间隙处摩擦学性能的稳定是高密度磁记录的关键技术之一。 为展开磁记录摩擦学的研究，本文研制了磁记录微观摩擦学性能测试仪，它可以模拟磁头/磁盘运行，并通过计算机对高速电机转速和起动/停止的控制来模拟硬盘的各种运行状态。该仪器实现了动态摩擦力、正压力、头/盘间隙和磁盘微磨损的测量和观察。 应用此测试仪，本文研究了磁盘表面三种不同粘度的全氟聚醚(PFPE)润滑膜在不同的载荷、起/停循环次数、头/盘静止接触时间、磁盘速度、环境湿度等条件下的摩擦学性能。研究表明：引起头/盘之间起/停静摩擦力增大的主要原因在于头/盘界面弯月面力的形成和发展；在高速、重载下，随着起/停次数的增加，润滑膜被磨损、割裂、迁移、重新分布甚至流失；PFPE润滑膜的疏水特性使其受湿度的影响并不明显。针对飞行高度的降低，研究了飞行高度对磁盘润滑分子迁移的影响，以及磁头起/停特性、飞行稳定性对磁盘润滑膜磨损的影响。 针对头/盘界面摩擦学性能的稳定问题，本文研究了在磁头表面制备抗湿分子膜及其对头/盘界面的影响。研究表明：抗湿分子膜具有疏油和疏水特性，它能够减少外界有机物和挥发性气体对磁头的污染和腐蚀，防止水分子在磁头表面凝聚，并阻止有机物和润滑分子在头/盘界面积聚，从而大大减小了头/盘的起/停摩擦力。同时，抗湿膜能够降低磁头对磁盘润滑分子的吸附作用，从而减少了磁盘润滑分子的迁移流失，增强了头/盘界面的润滑稳定。 针对磁盘PFPE润滑剂降解对头/盘摩擦学稳定性的影响，研究了磁头材料对PFPE的催化降解机理、X-1P对PFPE降解的减弱以及X-1P薄膜对头/盘界面摩擦学性能的影响。机理实验表明：磁头材料Al2O3对PFPE润滑剂具有催化降解作用，而X-1P能够减弱这种催化作用。通过起/停实验和质谱分析表明：磁头表面适量的X-1P分子能够提高润滑分子的迁移流动能力，从而增加润滑分子在磁盘表面的局部流动，这将有利于润滑膜在局部区域摩擦损耗后的自动修复。