【摘 要】
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由于Fe-N膜材料具有优异的磁学性质,近年来已成为磁性膜领域的研究热点。与单纯的二元Fe-N膜相比,掺杂型Fe-N膜以及引入间隔层的Fe-N多层膜具有独特的磁学性质,有很大的应用
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由于Fe-N膜材料具有优异的磁学性质,近年来已成为磁性膜领域的研究热点。与单纯的二元Fe-N膜相比,掺杂型Fe-N膜以及引入间隔层的Fe-N多层膜具有独特的磁学性质,有很大的应用价值。本论文采用物理气相沉积方法分别制备了Cu(Nb)掺杂Fe-N薄膜和Fe-N/Si-N多层膜。采用X射线衍射(XRD)、选区电子衍射(SAED)、扫描电镜(SEM)、振动样品磁强计(VSM)、纳米压痕仪(Nanoidentent)等测试手段,详细研究了Cu(Nb)的掺杂以及Si-N间隔层的引入对Fe-N体系结构、磁性、热稳定性及力学性能的影响。取得了一些有价值的研究成果。上述研究为Fe-N膜材料的应用提供了理论和实验依据。
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