真空镀膜机是一种直流磁控反应溅射镀膜机，主要应用于太阳能真空管的制造过程。根据厂家工艺要求和技术参数，以PLC、触摸屏作为硬件开发平台，设计三靶磁溅式真空镀膜机的电气控制系统。工件旋转和靶旋转均采用模块化的直流电机驱动电路，通过PLC软件程序实现电枢降压软起动。采用分子泵替代油扩散泵，解决了镀膜生产中油扩散泵出现的返油现象，提高镀膜质量，降低了控制系统的功耗，节约电能90％以上。分子泵VVVF自适应控制的速度闭环控制建立于真空室真空度的基础上，从而有效解决了真空度稳定和陡降之间的矛盾。首次获得了与技术工艺参数相适应的靶电源模糊控制方法，该方法用软件程序简化硬件电路，明显优于传统的PID控制方法，模糊化处理的电流反馈回路解决了直流电流稳定和陡降之间的矛盾。通过EasyView触摸屏进行参数设置、显示、工艺流程的全程监控以及开关量的操作，体现以人为本的设计思想，提高了系统的可靠性。 电气控制系统具有参数设置、工艺流程自动／手动控制、故障报警和保护等功能。文中对于控制系统软、硬件结构进行了详细的论证分析和相应的设计。在设计中，首先利用三菱公司提供的仿真软件对PLC软件程序进行了仿真分析，然后在生产现场对控制系统进行整体调试，最后生产实践应用中证实了该系统的可行性。