等离子体弧磁热耦合特性分析及抛光玉石的机理研究

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目前,许多国家的玉石加工厂对玉石的抛光技术进行了许多的研究和改进,提出了多种用于玉石抛光的技术,主要有机械抛光、机械化学抛光、化学抛光(酸抛光)和振动抛光等,这些方法普遍存在的问题是工作环境差、玉石表面易遭到污染、抛光后玉石表面易产生微裂纹和抛光过程中影响因素多难操控等诸多不足。针对现有抛光方法存在的问题,本课题采用等离子体弧非接触抛光玉石表面,以期能够寻求出一种玉石抛光的更好方式。本文首先通过磁热耦合特性分析实验对等离子体弧的磁热耦合特性有一个了解和认识,然后在其基础上选择合适的工艺参数,开展玉石抛光的实验研究。本文研究的主要内容有:1.根据等离子体弧的热源特性,选取合理的热源模型,利用有限元软件(Ansys)对其抛光玉石的温度场进行了数值模拟分析,得到玉石表面和内部的温度场分布,并对玉石表面各点温度增长幅度的影响因素进行了分析,为之后抛光实验参数的选取提供参考依据。2.用数字式特斯拉计测量了等离子体弧在电流和气体流量单一因素变化下的轴向和径向自生磁场强度值和磁场方向,分析了等离子体弧自生磁场随参数的变化情况,并给出了合理的等离子体弧外部磁场的分布形式。3.采用红外测温仪测量了在电流和气体流量单一因素变化下开机10s时的工件表面中心点处的温度值,以及在外加磁场形式不变的情况下,单一变化电流和气体流量开机10s时,等离子体弧施加在工件表面中心点处的温度,得到了等离子体弧自生磁热和外加磁热的关系曲线,并对等离子体弧磁热耦合特性进行了分析。4.实施了等离子体弧玉石抛光的实验研究,并对玉石材料的去除机理进行了分析,研究了电流、气体流量、外加不同磁场形式等工艺参数对表面粗糙度的影响程度和影响规律。
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