本文制备了球形结构Mo/Mo₂S₃/MoS₂和无机类富勒烯（IF）MoS₂,对采用磁控溅射IF-MoS₂靶材所沉积制备的MoS₂薄膜的组织结构和摩擦磨损性能进行了研究,同时还评估了MoS₂/Mo梯度镀层的摩擦磨损性能。 用高能球磨层状MoS₂的方法得到非晶态MoS₂。在850℃下对球磨120 h得到的非晶态MoS₂进行5 h保温退火,发现当通入H₂+Ar混和气体时,得到的是0.3-2μm左右的球状Mo/Mo₂S₃/MoS₂颗粒,而只通入Ar气则得到的是层状MoS₂颗粒。 将喷雾干燥（NH₄）₂MOS₄溶液得到前驱体,在Ar气氛下650℃保温5 h制备得到了IF-MoS₂。用XRD、SEM和TEM对制备得到的IF-MoS₂进行表征。用TGA-DTA方法结合IF-MoS₂形貌和结构,分析和探讨了IF-MoS₂的形成过程和机理。 用喷雾干燥法制备得到IF-MoS₂和商业化的2H-MoS₂分别作为磁控溅射靶材,制备镀层。通过TEM研究两种不同镀层的结构发现,使用IF-MoS₂靶材制备的镀层主要是由短而无序的MoS₂构成,而使用2H-MoS₂靶材的镀层则有长而整齐的MoS₂构成。 在真空和大气两种不同环境中,用微摩擦仪评估两种不同镀层的摩擦磨损性能。结果发现使用IF-MoS₂靶材磁控溅射的镀层中短而无序的MoS₂在真空和大气两种环境中都具有良好的摩擦磨损性能,可能是由于IF-MoS₂靶材磁控溅射的镀层中短而无序的MoS₂在摩擦过程中自我卷曲并从基体脱离,改变滑动摩擦方式为滚动摩擦造成的。 用磁控溅射方法在钢基体上制备MoS₂/Mo梯度镀层,调整金属Mo靶的初始电源功率30、90、120 W来改变梯度镀层中Mo的含量。对MoS₂/Mo梯度镀层和纯MoS₂的结合力进行了比较,MoS₂/Mo梯度镀层的结合力都要比MoS₂镀层好,均达到100 N以上。对在大气中镀层的摩擦系数比较发现,初始功率为30W的MoS₂/Mo梯度镀层摩擦系数最低,接近纯MoS₂镀层。比较划痕SEM照片,发现MoS₂/Mo梯度镀层具有良好的抗磨损性能。