对于工程学中应用范围较广的介观和纳米结构,聚合物薄膜去润湿的自发形态是一种有应用价值前景的方法。去润湿在基底的过程是以一定范围的尺寸孔洞形成并生长,最终,产生的各向同性孔洞合并为液滴的聚集态。这种去润湿结构的平均尺寸以及主导波长均取决于初始膜的厚度和界面张力的大小。然而,最终去润湿结构的随意性和缺少长程有序性,阻碍着去润湿作为一种可行性的表面图案技术应用于工程学微结构。因而,在器件制造的潜在应用价值上,将如何使长程有序和调控去润湿结构图案是一大挑战。本论文主要研究了嵌段聚合物薄膜在由无水乙醇、蒸馏水和二甲苯组成的混合溶剂熏蒸作用下的去润湿行为,并且发现苯乙烯-丁二烯-苯乙烯嵌段共聚物(SBS)在该混合溶剂的熏蒸作用下,发生去润湿形成了稳定的分层结构——“蛋糕”结构,该结构在微纳米电子器件结构中有重要的应用前景。借助光学显微镜和原子力显微镜等实验手段来研究高分子溶液膜的去润湿行为:分析并探讨了薄膜厚度、温度和湿度对SBS薄膜去润湿形成“蛋糕”结构的影响,当厚度小于15nm,温度在20～40℃之间,湿度在30-60%范围内为最佳条件,并发现混合溶剂是一种新的机理诱导薄膜去润湿。这种混合溶剂诱导去润湿过程由渗透、取代、合并和聚集来完成,不同于以往的热诱导去润湿和良溶剂诱导去润湿。总之,通过对这种混合溶剂诱导聚合物去润湿图案“蛋糕”结构形成的影响因素和机理的简单讨论,为制备可调控有序纳米微结构模板的新工艺提供了依据。