氟掺杂氧化锡薄膜的制备及其电学性能的研究

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透明导电薄膜由于其优良的透光性能与导电性能,一直是研究的热点,目前生产研究最多的透明导电薄膜是金属氧化物薄膜,以SnO2为导电基础材料的导电薄膜多种多样,其中以ITO(Indium Tin Oxide)、FTO(Fluorine-doped TinOxide)、ATO(Antimony Tin Oxide)应用最为广泛,而FTO因其价格低廉,性能优越,制备工艺简单在导电薄膜领域一直属于应用比较广泛的薄膜,特别是在电化学领域。本文采用溶胶水热法并热处理后,成功的制备了F掺杂SnO2导电薄膜。通过讨论晶型转变温度及合理掺杂温度以确定最优的制备条件。文章讨论了溶胶的浓度、F/Sn等因素对导电薄膜电学光学性能的影响。测试表征手段包括X射线衍射仪、扫描电镜、透射电镜、紫外可见分光光度计、傅里叶红外测试仪、差热及热重分析仪、霍尔效应测试仪等。测试结果显示,溶胶凝胶法制备的F掺杂SnO2晶体颗粒尺寸为纳米级,晶粒尺寸在10nm左右。F离子的掺杂对SnO2晶体有轻微的影响,通过X射线衍射、透射电镜、红外等等测试分析掺杂前后的变化。匀胶法生成的薄膜表面平整,连续性好,没有明显的缺陷,薄膜与玻璃之间结合良好,薄膜厚度在3μm左右。霍尔测试显示载流子浓度随着F掺杂量的增加而增加,迁移率的变化趋势与载流子浓度趋势相反,显示下降趋势,当F/Sn比为0.8时,导电薄膜的表面电阻达到最低值,为185/□。当F/Sn比为0.1时,透光性显示最优,可达到90%。透明导电薄膜性能指数ΦTC值,显示了集导电性能和透光性能一身的综合性能表征,ΦTC值显示,当F/Sn比为0.2时,ΦTC值最大,达2.23×10-4,表明综合性能最优。结合重掺杂理论,分析发现,满足透明导电薄膜的最优条件时,其薄膜掺杂浓度属于重掺杂简并半导体范畴,简并半导体具有高载流子浓度,低电阻等特点。
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