【摘 要】
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随着无机固态电解质在许多领域当中的应用,其离子电导率以及离子在界面中的传导机制逐渐成为许多工作者关注和研究的重点。锂离子无机固态电解质薄膜作为电解质层,是无机全固态电致变色器件的关键组成部分,起着离子传输-储存的重要作用。在实验室前期探索出固态电解质薄膜制备工艺的基础上,本论文采用磁控溅射法在FTO衬底上制备了TaOx、LTO/LPO（LixTiyOz/LixPOy）固态电解质薄膜,系统研究了制备
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随着无机固态电解质在许多领域当中的应用,其离子电导率以及离子在界面中的传导机制逐渐成为许多工作者关注和研究的重点。锂离子无机固态电解质薄膜作为电解质层,是无机全固态电致变色器件的关键组成部分,起着离子传输-储存的重要作用。在实验室前期探索出固态电解质薄膜制备工艺的基础上,本论文采用磁控溅射法在FTO衬底上制备了TaOx、LTO/LPO（LixTiyOz/LixPOy）固态电解质薄膜,系统研究了制备工艺及退火温度对无机固态电解质薄膜结构和性能的影响规律;重点探讨了不同退火温度下LTO/TaOx、LPO/TaOx复合结构的光电性能和Li+界面传输行为。采用直流反应磁控溅射在不同功率下制备了TaOx薄膜,研究了溅射功率对TaOx薄膜结构、形貌、光学和电学性能的影响,采用碳酸丙烯酯（PC）/LiClO4溶液作为电解液,通过测试Glass/FTO/WO3/TaOx半结构的光学调制特性,定性分析了不同溅射功率下薄膜的离子传输性能。在此基础上,系统研究了热处理温度对TaOx薄膜结构、形貌、光学和电学性能的影响,着重分析了不同热处理温度下薄膜的漏电流和离子电导率。在室温下通过射频磁控溅射制备LTO薄膜,并对其进行了不同温度的退火处理,研究了退火温度对LTO薄膜结构、形貌和光电性能的影响。采用紫外-可见分光光度计测试薄膜在可见光波段的透过率,对FTO/LTO/Al结构进行了Ⅰ-Ⅴ测试,并对LTO薄膜进行了交流阻抗测试,分析了不同退火温度对薄膜的漏电流和离子电导率的影响。同时,研究了不同退火温度下LTO/TaOx复合结构的光电性能,着重分析了界面电阻对离子迁移的影响。对室温下制备的LPO薄膜进行了不同温度的退火处理,研究了退火温度对LPO薄膜结构、形貌和光电性能的影响。着重分析了退火温度对LPO薄膜离子电导率的影响。在此基础上,研究了不同退火温度下LTO/TaOx复合结构的光电性能,着重分析了锂离子在复合薄膜中传输行为。
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