[目的]本研究旨在观察与评价两种氟化钠涂料Clinpro XT Varnish和Duraphat对于根面龋再矿化效果,以及Clinpro XT Varnish对根面龋的预防效果。[方法]采用完整的前磨牙、磨牙共60颗,随机分成6组,在牙体的近中或远中面预留2mm×3mm的开窗区,建立人工根面龋模型。其中CLP4组为脱矿4天后涂布Clinpro XT Varnish,DP4组为脱矿4天后涂布Duraphat和CLPpro组为先涂布Clinpro XT Varnish后脱矿,三组为实验组。CHX4组为脱矿4天后涂布氯己定涂料和CLP6组为脱矿6天后涂布Clinpro XT Varnish,两组为条件对照组。DW4组为脱矿4天后涂布去离子水,为空白对照组,每组10个样本。5组置于pH4.5的乳酸脱矿液中,CLP4、DP4、CHX4、DW4、CLPpro组脱矿4天,CLP6组脱矿6天。CLPpro组脱矿前涂布Clinpro XTVarnish后脱矿4天,各组涂布对应试剂后交替放入pH4.5的酸性缓冲液和pH7.0的中性缓冲液中,进行15天pH循环以建立人工根面龋模型。将样本制成牙骨质-牙本质磨片并用Goldner’s三色法染色,光学显微镜下观察龋损形态结构并测量6组的脱矿层厚度和再矿化层厚度,进行统计学分析。[结果]1.CLP4组的再矿化层厚度(10.832±3.746μm)大于DP4组(8.646±2.087μm),有显著统计学差异(P<0.05)。CLP4脱矿层厚度(31.355±3.082μm)小于DP4(36.250±2.853μm),存在显著统计学差异(P<0.05)。CHX4组的再矿化层厚度和脱矿层厚度与DW4组均无显著统计学差异(P>0.05)。2.CLP4组和CLP6组的再矿化层厚度无显著统计学差异(P>0.05)。CLP4组脱矿层厚度(31.355±3.082μm)小于 CLP6 组(49.376±3.904μm),有显著统计学差异(P<0.05)。3.CLP4组的脱矿层厚度(31.355±3.082μm)大于CLPpro组(19.688±4.602μm),有显著统计学差异(P<0.001)。DW4组的脱矿层厚度(54.063±6.102μm)大于 CLPpro 组(19.688±4.602μm),有显著统计学差异(P<0.001)。[结论]氟化钠涂料对根面龋明显促进再矿化作用和预防作用。再矿化时间相同时,Clinpro XT varnish的再矿化层厚度大于Duraphat。对于不同深度的根面龋,再矿化时间相同,Clinpro XT varnish形成的再矿化层厚度无显著差异。