本文利用Nd-YAG激光器(波长为1064nm,频率为10Hz)做光源,以金属锌为靶材,分别以Si (111)和石英玻璃为基体在氧的气氛中沉积ZnO薄膜。通过对各工艺参数对ZnO薄膜的组织结构、表面形貌和光学性能影响的研究,首次成功地利用1064nm波长的激光器制备出了含有很少液滴的ZnO薄膜。通过优化激光能量密度、氧气压力和基体温度等工艺参数成功地在Si(111)基体上制备出具有(002)择优取向、晶粒大小均匀、表面平坦光滑且发光性能良好的ZnO薄膜。理论研究表明,紫外光的发射强度依赖于晶体结构,黄绿光的发射与ZnO薄膜的内部缺陷(氧错位缺陷OZn)有关。在低温下以石英玻璃为基体制备出具有(002)择优取向、晶粒尺寸较小且只有单一紫外发射的ZnO薄膜,在不同基体温度下沉积的ZnO薄膜的透过率值均高于70%且禁带能量不相同,创新之处在于,利用较为简单的方法在低温下制备了没有深能级发射而只有紫外发射的高质量ZnO薄膜。