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ICF驱动系统需要大量的大口径超精密平面光学元件,在此类元件的加工 中,环抛(Continuous Polishing)是一种非常重要的抛光技术,但目前它还存在 着一些问题:对操作者的经验依赖太强,加工效率不高,加工质量也不稳定。 根本原因是人们对抛光磨削的规律还认识不够,尤其是对工艺参数的影响,还 没有一个准确的认识。 本论文从理论和实验两个方面对环抛进行了研究。首先总结了环抛工艺中