【摘 要】
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本论文利用磁控溅射真空镀膜技术,在金刚石上集成出高压下测量样品电阻率的金属电极微电路,应用此微电路在DAC中测量了硒化锌和碲化锌的电阻率。压力范围控制在常压至20GPa之
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本论文利用磁控溅射真空镀膜技术,在金刚石上集成出高压下测量样品电阻率的金属电极微电路,应用此微电路在DAC中测量了硒化锌和碲化锌的电阻率。压力范围控制在常压至20GPa之间,同时,对其在1Hz-32MHz范围内的交流阻抗谱进行测量。硒化锌晶体在13.1GPa之前体一直处于闪锌矿结构,在13.5GPa之后处在岩盐矿结构,其金属化压力点是在17.0GPa。碲化锌晶体在升降压时在闪锌矿-朱砂相-正交结构三种结构之间转变,在12.5GPa左右发生金属化相变。阻抗谱的测量辅助说明了两种半导体化合物的直流电阻在压力变化过程中的变化规律。
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