本文所研究的基体材料为7A04铝合金，采用非平衡磁场磁控溅射的方法在铝合金基体上制备氮化钛薄膜。分析了不同热处理状态下基体的组织。通过使用X射线衍射仪(XRD)分析了薄膜的物相组成；通过扫描电镜(SEM)观察到了薄膜的表面形貌。利用HVS-10数显维氏硬度计分析了不同溅射工艺及时间下各试样的硬度及膜-基结合力的情况，探索出在保证基体力学性能下的溅射工艺。通过电化学极化曲线讨论了不同溅射时间及工艺对7A04铝合金耐腐蚀性能的影响，并分析其腐蚀行为。实验结果表明：利用磁控溅射的方法可以在铝合金基体上制备出表面均匀致密的TiN薄膜。镀膜后的硬度都要比铝合金基体的硬度高，但直接对7A04铝合金用磁控溅射方法制备薄膜时基体的硬度会随时间的延长而下降,所以还探索出保证基体力学性能的双效时效处理工艺,对基体进行镀膜前的热处理，470℃×60min水淬，120℃下保温3小时空冷后的试样进行镀膜，功率为210W溅射时间5小时。结合力的测试表明，溅射2小时、4小时和5小时的薄膜，膜-基结合力都好于溅射6小时的薄膜；通过X射线衍射(XRD)得出TiN薄膜生成了新相Ti2N，该相结构提高了薄膜的硬度；电化学极化曲线研究发现，双级时效处理后的铝合金的耐蚀性好于未经过处理的试样及单级峰时效的试样，镀膜后薄膜的耐腐蚀性都要好于铝合金基体本身；耐蚀性最好的是对热处理后的基体溅射5h的试样，其耐蚀性高于其它工艺处理的薄膜。