β-SiC薄膜制备及特性研究

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【摘要】

：

本工作采用激光溅射沉积(PLD)和激光辅助热丝化学气相沉积(HFCVD)两种实验技术制备了SiC薄膜，并对薄膜特性进行了研究。用扫描电镜(SEM)，X射线衍射(XRD)，拉曼光谱(Raman)，高分辨透射电镜(HRTEM)，光致发光(PL)等手段，对薄膜形貌，成份，微观结构和薄膜发光特性进行了分析和确定；研究了激光能量，衬底温度等实验参数对SiC薄膜生长的影响，特别是不同沉积温度在薄膜合成中的作用

【作者】

：

郑志远

【机构】

：

河北大学

【发表日期】

：

2002年06期

【关键词】

：

热丝化学气相沉积激光溅射沉积纳米SiC SiC纳米线

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