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过渡族金属氮化物纳米复合膜和多层膜具有高硬度和高温抗氧化性等优良的综合性能，能显著改善切削工具的切削性能和模具的耐磨性能，延长其使用寿命，在现代化工业生产中具有广泛的应用前景。以此为研究背景，为了进一步改善薄膜的摩擦学性能，本文采用直流磁控溅射技术制备Ti-Si-N纳米复合膜及Cr-W-N、Cr-Mo-N系列薄膜，研究了不同工艺参数对于薄膜的微结构、膜基结合状况及摩擦学性能的影响，以寻求最佳的薄膜制备工艺。在特定的基底温度、偏压、溅射功率下，通过磁控溅射镶嵌式复合靶制备了不同