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镁及其合金以丰富的储量和良好的性能而越来越受到人们的重视，随着技术的进步，镁合金材料生产成本的降低，镁合金结构件成型工艺的改进和材料质量的提高，特别是人们对节约资源和减少污染问题的日益关注，镁合金所具有的“可持续发展性强”的特点使其在同其它轻质材料的竞争中已取得明显优势，成为一种十分理想的现代工业材料，从而广泛应用于航空航天、汽车制造、家用电器等领域。但是由于镁的化学性质十分活泼，标准电极电位比较低（—2.36V SCE），其耐腐蚀性能较差；虽然表面存在氧化膜，但结构不够致密，起不了太大的保护作用，不能适应大多数的使用环境，在潮湿氛围、海水、大多数有机酸、无机酸等环境中都会受到强烈的腐蚀而产生破坏；并且当镁合金中的第二相、杂质元素等成分能与镁基体构成电偶对时，腐蚀情况更加严重。因此如何提高镁合金的防腐蚀性能也显得越来越重要。化学镀Ni-P合金是解决镁合金耐蚀性的一个重要方法，它不但可使基体材料获得良好的耐蚀性和耐磨性，同时还有可操作性强、方法简单、镀层厚度均匀、化学稳定性好等特点。本文就研究了用镁合金中常用的Mg-xZn-yAl基合金作为基体时，成分和组织在化学镀过程中的作用，以及化学镀工艺参数对Mg-8Zn-4Al合金的影响和其化学镀层的组织性能特征。 本文采用正交试验、金相观察、X射线衍射（XRD）、扫描电子显微镜（SEM）、能谱（EDS）、显微硬度以及盐雾试验等实验方法和测试手段研究了Mg-xZn-yAl基合金的成分和组织在化学镀过程中的作用，以及化学镀工艺参数对Mg-8Zn-4Al合金化学镀的影响和化学镀层的组织性能特征。 在化学镀过程中，镀液组分繁多，施镀参数复杂，其中主盐、还原剂、络合剂、温度和PH值对化学镀过程的影响较为重要，而这种影响主要体现在镀液的稳定性和镀层沉积速度上。通过在Mg-8Zn-4Al合金基体上试验表明（1） 主盐和还原剂是化学镀液中的主要成分，它们的浓度影响着化学镀的镀速和稳定性，试验表明最佳Ni2+浓度范围为10-18g／L，Ni2+与（H2PO2）-的最佳浓度比为0.3-0.5。（2）络合剂是化学镀液中的重要影响因素，络合剂要根据它的稳定常数进行选择，单一络合剂的作用难以达到预期的效果。试验结果表明，双络合剂体系兼有稳定性好和镀速高两种优势。乳酸—柠檬酸体系的最佳用量范围为：乳酸：13-16mL／L， 摘要柠檬酸:4.5一5.59/L。（3）化学镀液的PH值高，容易析出NIHP仇沉淀，镀液稳定性差;PH值过低，镀速缓慢，化学镀过程难以进行。试验表明，镀液的PH值在5.5一6.5之间，镀液的施镀效果较好，镀速和稳定性都能够得到保证。（4）化学镀过程的进行需要有一定的启镀温度，温度过低，镀速缓慢，施镀效率低下;温度过高，镀液处在热力学不稳定状态，很容易造成分解，造成镀液失效，镀层也容易出现气孔、应力等缺陷，镀层质量变差。试验结果表明，化学镀液最佳温度范围应该稳定控制在90士5℃。 通过对Mg一xZn一yAI基合金进行施镀后发现，基体的成分和组织影响着化学镀过程中镍离子的初始沉积。由于基体中合金元素的电极电位不同，含合金元素多的相决定了镍离子最先开始沉积的位置。Mg一SZn一4AI合金中由于zn和A1元素含量较高，相的组成和分布复杂，使得化学镀过程中镍离子较为容易产生沉积，施镀速度快;AZ91和AZ31速度相对较慢;经过固溶的基体由于相的析出不明显，镍离子的初始沉积变得较为困难。 在同样的条件下，不管是何种镁合金基体，得到的镀层组织性能是相近的，通过在Mg一SZn一4AI基体上施镀后的镀层分析表明:（l）镍离子和磷离子沿着基体表面的活性中心进行初始沉积，然后以胞状形式进行生长，并向周围扩展，胞状颗粒的形态影响着镀层的表面质量。（2）镀层中磷的含量影响着镀层的结构，在选用的配方中施镀后，镀层中磷含量约为12%，镀层为明显的非晶结构。（3）化学镀层与基体结合良好，锉刀试验和热震试验无明显的脱落，但在镍层沉积过程中，活化产物残留在基体与镀层的交界处，形成了一薄层结合较弱的部位。盐雾试验表明镀层的耐腐蚀性明显高于基体，有助于改善基体的防护性能，而镀层中的孔隙是造成镀层被腐蚀破坏的重要原因，镀前的预镀、镀中的封孔以及镀后的钝化都可以消除不良影响，改善镀层质量。（4）施镀后的镀层显微硬度为HV434.6，显著高于基体HV84.48，镀层的硬度随着镀层热处理温度的升高而增加，最高可以达到HVI 000以上;镀层结构也发生了较大的变化，在300℃以后镀层已出现明显的晶化，400℃以后由于镀层中Ni，P相的长大而使镀层的显微硬度有所降低。