X射线因具有极强的穿透能力，被广泛应用于成像领域，即X射线显微成像技术。X射线显微成像技术具有分辨率高、成像机制多、衬度来源丰富等优点，广泛应用于生物、生命科学、考古、新材料、半导体等领域。X射线波带片是X射线显微成像系统中聚焦与成像的核心元件之一，为实现X射线的高分辨率成像及高效率聚焦，必须增加波带片的高宽比，这是该领域长期以来亟待解决的关键问题。　　本论文针对X射线波带片高分辨率、高效率的应用需求，以研制更大高宽比X射线波带片为目标，利用原子层沉积和离子束切割相结合的方法制备X射线波带片，主要工作如下:　　1.本论文介绍了波带片的工作原理、结构特点，推导了波带片的空间分辨率和衍射效率的计算公式。根据实际应用需求，设计了X射线波带片的结构和参数。　　2.本论文介绍了金属电解抛光技术的原理、特点，将钨丝作为波带片的中心层，研究了钨丝电解抛光的工艺和影响因素，包括电解液浓度、电解电压、抛光时间和阴阳两极间距的影响，通过优化工艺参数，成功制备出直径为30μm、表面均方根粗糙度低于5nm的钨丝。　　3.本论文提出了采用原子层沉积和离子束加工技术相结合制作大高宽比X射线波带片的技术路线，首先利用原子层沉积技术在直径为30μm的钨丝表面交替沉积Al2O3/HfO2多层薄膜（共360环），作为波带片的环带结构;然后利用聚焦离子束将镀有Al2O3/HfO2多层膜的钨丝切割成所需高度的薄片，并详细研究了离子束切割参数对切割效果的影响;最后经过离子束抛光，制备出最外环宽度为10nm、高度为50μm的波带片。　　4.本论文根据波带片的一级衍射效率对波带片的设计进行优化计算，结果显示，针对不同能量的入射X射线，通过优化波带片的高宽比可获得更高的衍射效率，针对不同材料的多层膜波带片，亦可根据衍射效率的最优值来优化设计波带片的高宽比。