以Si、Mo为起始原料，经预热、反应烧结、最后热压烧结制成Si3N4/MoSi2复合陶瓷材料。利用X射线衍射(XRD)、扫描电镜(SEM)等对该材料的相结构和显微结构进行了分析。对反应生成试样及后热压烧结试样进行了室温及高温机械性能测试，研究表明，从室温至1200℃材料的抗弯强度随温度升高而明显增加，并利用扫描电镜对不同温度下的断裂面进行了显微结构分析。 研究了不同MoSi2含量的Si3N4/MoSi2复合材料的高温氧化行为，用XRD和SEM分析材料氧化以后的相组成及显微结构，探讨了该材料的氧化机理和氧化膜的破坏方式，结果表明，不同MoSi2含量的Si3N4/MoSi2复合材料在1400℃空气中氧化100h的氧化增量符合抛物线规律，随着MoSi2的含量的增加，材料的氧化活化能升高，氧化后的强度损失率减小。 用Si、Mo和Nb作为起始原料通过预烧结、氮化反应和N2气氛下的热压烧结制备出Si3N4/MoSi2/NbN复合材料，借助SEM和XRD等分析手段对各阶段样品的相组成和显微组织进行了表征，结果表明：在预烧结阶段获得了NbN、MoSi2和未反应的Si相；随着温度的提高，氮化反应生成了α-Si3N4和少量β-Si3N4；最后经热压烧结制备了Si3N4/MoSi2/NbN复合材料。 以Si3N4/MoSi2/NbN复合材料作为研究对象，研究了其在不同温度下的氧化性能。利用XRD、SEM等分析手段对复合材料的氧化产物进行了测定。结果表明试样在1150-1400℃温度范围内氧化出现了两个阶段，即0-15h线形快速氧化阶段，A、B氧化活化能分别为98kJ/mol和132kJ/mol，而15h以后为抛物线缓慢氧化阶段，A、B氧化活化能分别为426kJ/mol和492kJ/mol；气孔率越高，氧化越严重，快速氧化阶段持续时间越长。