微光学元件目前在光信息处理、光通信、微光学传感器,超精细加工等许多光学领域方面获得了越来越广泛地应用。微结构光学器件正向微型化、阵列化等方向发展,器件的尺寸要求变得越来越小,相应地使得制作微光学元件的方法要求越来越高。鉴于制作微光学元件技术需要克服光刻技术效率不高,提高分辨率等研究问题,提出了一种基于DMD数字掩模制作技术制作微光学元件的新方法。本文通过对基于DMD数字掩模制作技术理论研究,通过实验仿真对倾斜角度theta和扫描步长等实验参数的匹配优化研究,实现了改善分辨率的可行性,并且探究二者误差对成像质量的影响,为探索微光学元件的制作方法提供一条新的途径。论文的主要研究工作如下:1、详细研究了亚像素扫描调制光刻技术的原理,以及单方向扫描调制数字掩模提高分辨率的机理。分别设计了几种优化的数字掩模,包括二元光栅掩模、微透镜掩模和微透镜阵列掩模,通过仿真上述掩模沿不同倾斜角单方向移动积累的曝光量来验证亚像素扫描调制光刻技术,从而改善光刻成像质量的可行性。2、搭建了亚像素扫描调制光刻系统,详细介绍了各个光学部件在整个光路系统中所起的作用以及光路调整方法,并对光刻系统中的光源参数、扫描参数等做了一定的优化。通过仿真实验得出了最优扫描参数的匹配,即扫描步长和倾斜角度之间的优化匹配。3、通过大量的实验研究,深入摸索了实验工艺,探究了不同参数以及不同的实验条件对制作结果的影响,获得了较好的实验工艺参数。