Bragg光栅结构因其对特定波长良好的选择反射作用,而在日益增长的光纤通信系统,尤其是波分复用系统中,得到越来越广泛的应用。它被广泛用来制作光学滤波器、半导体激光器、光纤传感器等光电子器件,器件的性能很大程度上决定于内置Bragg光栅的质量。自Bragg光栅的概念提出后,探寻简便、低成本加工的方法就一直没有停止过。纳米压印作为一种新的微纳图形结构加工方法,具有高分辨率、低成本、高产量和操作简便等一系列优点,应用前景广阔。本文以分布反馈半导体激光器和DBR型可调谐半导体激光器为研究对象,围绕基于纳米压印技术制作激光器波导光栅展开了一系列的研究和探索。具体工作如下:(1)简要介绍了Bragg光栅的结构特点和基本理论,概述了包括激光全息曝光和电子束光刻在内的,传统微纳光栅加工工艺。(2)详细介绍了纳米压印加工技术,包括其典型的工艺流程和对工艺过程中所用压印模版、压印胶等材料的要求等。(3)通过引入一个中间软模版和一个新的工艺流程,对传统的纳米压印方法进行改进,大大提高了其压印的容错能力和图形转移效果,并且对随后的图形刻蚀过程进行了研究。(4)将纳米压印方法用于制备各种类型的Bragg光栅结构,包括均匀光栅、相移光栅和采样光栅等;随后将光栅引入分布反馈激光器,测试激光器性能,并对Bragg光栅的加工误差进行分析、研究。