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近年来,铁电薄膜材料由于具有良好的压电、热释电、铁电特性,因此得到了广泛的关注。其中,PZT薄膜由于具有较高的自发极化,相对低的介电损耗和介电常数,而且95/5附近的PZT薄膜又具有丰富的相变,因此使其成为制备非制冷红外探测器首选材料之一。本论文对Pb(Zr0.95Ti0.05)O3薄膜的制备工艺、微结构以及电性能进行了研究。实验采用激光脉冲溅射法(PLD),在Si片上制备Si/YBCO/PZT薄膜,并对薄膜进行快速退火,通过AFM,XRD分析及对其电特性的测试分析,结果表明所制备薄膜具