电流调制与应力状态对非晶丝磁畴结构及GMI效应的影响

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本文以不同磁致伸缩系数的Co基、Fe基和CoFe基熔体抽拉非晶丝为研究对象,利用磁力显微镜(MFM)系统研究了不同电流调制和应力状态(表面电镀处理、低温介质电流调制处理、拉伸和扭转应力)对三种非晶丝的磁畴结构影响,同时,分析了不同处理状态下非晶微丝GMI的变化规律,并尝试揭示各种处理状态和GMI效应的对应关系。磁畴结构分析与GMI测试结果表明,制备态下,非晶丝的GMI效应取决于磁致伸缩系数和磁畴结构的分布。近零磁致伸缩非晶丝相比正、负磁致伸缩非晶丝,磁畴宽度小,分布均匀,环向畴体积分数高,因
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