论文部分内容阅读
原子层沉积(ALD),是一种通过连续的饱和表面自限制反应沉积成膜的技术。相比传统制备技术得到的薄膜,原子层沉积制备薄膜具有优越的复形性、均匀性和致密性等特点,因此在复杂形貌表面制备高质量光学薄膜方向具有很大的潜力。本文围绕原子层沉积制备薄膜的优异特性进行展开,分别对氧化物薄膜和金属铱薄膜进行了研究分析,工作主要涉及以下内容:首先进行了原子层沉积和传统光学薄膜制备技术的比较,深入理解了原子层沉积的机理和技术特性,详细探讨了影响原子层沉积效果的因素:前驱体的选取,表面化学,反应温度,反应腔内流体力学等。