HDDR(氢化H、歧化D、脱氢D及再化合R)工艺是用来制作粘结磁体的一种重要的方法,HDDR工艺可以获得具有高矫顽力的Nd-Fe-B磁粉.因其工艺过程及设备简单,粉末磁性均匀,收得率高,成本低,投资少,见效快,易于推广,所以发展前景十分广阔.该实验主要研究HDDR工艺对均匀化和未均匀化Nd<,12.5>Fe<,63.4-x>Co<,17.4>B<,6.6>Zr<,0.1>Ga<,x>(x=0.1,0.5,1.0);Nd<,12.5>Fe<,62.5>Co<,17.4>B<,6.6>Ga<,1.0>;Nd<,14.2>Fe<,61.5>Co<,16.2>B<,7.0>Zr<,0.1>Ga<,0.5>Al<,0.5>;Nd<,14.2>Fe<,62>Co<,16.2>B<,7.0>Zr<,0.1>Ga<,0.5>和Nd<,14.2>Fe<,62>Co<,16.2>B<,7.0>Zr<,0.1>Al<,0.5>材料磁性能的影响.结果表明:α-Fe软磁性相,它的存在对制粉、取向及Ms都有不利的影响,极大地影响了磁体的磁性能.均匀化处理可减少α-Fe量,但很难全部消除.对HDDR处理不同阶段产物的XRD物相分析表明:HDDR处理过程是Nd<,2>Fe<,14>B基相化合物氢化、歧化、脱氢及再化合的过程,在低温吸氢发生氢化,在中温吸氢发生歧化行为,实验最佳歧化温度控制在770℃~800℃之间.HD处理时间影响主相及富Nd相吸氢,歧化反应状况,最佳HD处理时间控制在2.5~3.5h之间.脱氢和再化合过程把原来粗大Nd<,2>Fe<,14>B晶粒(100μm)转变成细小的Nd<,2>Fe<,14>B晶粒(0.3μm),再化合温度控制在760℃~820℃之间,磁性能明显增强.控制脱氢时间使相变时间缩短,从而促使再化合过程易于形成微晶.DR处理时间与脱氢速度及时间紧密相关,最佳DR处理时间为1.5h.XRD物相分析表明,材料获得高矫顽力机制是畴壁钉扎和单畴两种作用结果.