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与六方氮化硼相比,硼碳氮具有大为改善的导电性和可调的能带结构,在应用上具有独特的优势。本论文利用微波等离子体化学气相沉积方法生长了由纳米片层组成的硼碳氮薄膜,其制备是基于六方氮化硼薄膜的生长工艺,通过在生长过程中同时引入CH4气体实现三元硼碳氮薄膜的生长。在此基础上,基于其重要应用前景,本论文考察了硼碳氮薄膜在发光和电子场发射方面的性质,并初步建立了硼碳氮薄膜材料的结构与其性质之间的关系。本论文首先较为系统地研究了生长工艺参数对六方氮化硼纳米片层薄膜生长的影响规律,建立了其可控生长的工艺