【摘 要】
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该文利用稀土化合物浆料对CVD金刚石厚膜表面进行刻蚀.研究了不同刻蚀温度和刻蚀时间对刻蚀效果的影响.总结了刻蚀作用的主要过程.通过机械抛光对比实验,获得了较好的抛光结
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该文利用稀土化合物浆料对CVD金刚石厚膜表面进行刻蚀.研究了不同刻蚀温度和刻蚀时间对刻蚀效果的影响.总结了刻蚀作用的主要过程.通过机械抛光对比实验,获得了较好的抛光结果.通过真空下的烧结实验、X射线衍射、XPS、热重法分析了刻蚀作用的机理.研究了金刚石厚膜基板上图形金属化工艺,制备了以金刚石厚膜为热沉基板的军用混合电路样品.
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