论文部分内容阅读
尖晶石铁氧体是强关联体系过渡金属氧化物的典型代表之一,在自旋电子学器件中具有重要的应用,其基态的自旋、电荷、晶格和轨道自由度相互耦合,对应力十分敏感。因此,利用应力对其物理性质进行调控,实现其性质的优化,可以促进自旋电子学器件的应用与发展。利用直流磁控反应溅射技术在SrTiO_3和MgO基片上生长了不同Lu含量的Lu_xFe_(3–x)O_4(0?x?0.26)外延薄膜,研究了静态应力对尖晶石铁氧体薄膜结构、磁性和输运特性的调控。SrTiO_3和MgO基片上生长的Lu_xFe_(3–x)O_4薄膜分