"软刻蚀"技术(Soft Lithography)是近年来发展起来的一种新型微制造技术,它是借助中介图形转移元件——弹性印章——把用昂贵设备生成的微图形以简便而又精确的方法复制出来的一类非光刻微制造术.与传统的光刻技术相比,软刻蚀具有显著的优点:操作过程简单、成本低廉;不需要复杂昂贵的大型光刻设备,可以在普通实验室很容易地展开;弹性印章一次模塑成型,可多次重复使用;可大面积、成批量制作微图形;不受光学效应的影响,可以突破光刻术的100nm极限;可以方便地在平面或曲面表面制作微细结构;既可以制造二维图形,也可以制造三维的微结构;可以对图形表面的化学性质加以改性控制,等等.过程方便快捷,灵活多变,结合选择性化学刻蚀和诱导成核等手段,可以方便地制备出各种微米、亚微米、纳米级的微细结构,并可进一步制成各种功能性器件,具有极好的潜在应用前景.该论文就是把"软刻蚀"这一新型微制造技术结合到高分子科研中来,以制备各种聚合物微结构.我们首先对用于制作弹性印章的硅橡胶体系的组分配比进行了优化选择,并用蒙脱土对其进行了掺杂改性,制备出性能较好的弹性印章;然后利用微接触印刷、微模塑、毛细微模塑等技术在多种聚合物材料上制作出了不同的微结构,并对其操作过程进行了初步的探讨.