【摘 要】
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近年来,高精度光学元件广泛应用于各种大型激光光学系统中。激光元器件的质量直接影响着激光系统的性能提升。但限于加工工艺,光学元件无法避免地会产生缺陷,从而影响整个光学系统的运作。因此,对光学元件缺陷检测的要求逐步提高。现有的光学元件缺陷检测手段各有不足,需要开发更精确的检测手段。光腔衰荡技术可以做到精准测量超高反射率,利用该技术得到的光学元件反射率分布图,图中数据本质上是光斑与真实缺陷相卷积的结果,
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近年来,高精度光学元件广泛应用于各种大型激光光学系统中。激光元器件的质量直接影响着激光系统的性能提升。但限于加工工艺,光学元件无法避免地会产生缺陷,从而影响整个光学系统的运作。因此,对光学元件缺陷检测的要求逐步提高。现有的光学元件缺陷检测手段各有不足,需要开发更精确的检测手段。光腔衰荡技术可以做到精准测量超高反射率,利用该技术得到的光学元件反射率分布图,图中数据本质上是光斑与真实缺陷相卷积的结果,可以使用数学反卷积算法进行修正,从而提高缺陷的检测分辨率。因此,本文主要针对光学元件缺陷检测分辨率及影响因素的理论展开研究,主要包括以下几个方面:(1)从光腔衰荡和反卷积理论出发,对提高光学元件缺陷检测分辨率的方法进行了研究,对比传统的光学元件缺陷检测方法,研究了基于光腔衰荡扫描测量反射率分布图的反卷积处理方法来提高缺陷检测分辨率。(2)利用光腔衰荡实验系统测量了高反射激光元件,对高反元件的反射率进行了一维及二维成像扫描,使用反卷积算法进行处理,得到真实反射率分布图。(3)编写了基于MATLAB的反卷积程序,进行仿真数值计算,从正反两面验证了方法的正确性。通过分析,反卷积分析方法可以很好地对高反射率光学元件反射率分布图像进行处理,能消除测量光斑尺寸的影响,有效地提高检测结果的准确性,使结果更接近实际情况。(4)研究了不同因素对光学元件缺陷检测分辨率的影响,具体包括:分析光斑尺寸对卷积结果的影响;分析不同光斑能检测到的缺陷范围;以及关于扫描步长对测量结果反卷积的影响进行了分析。
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