本论文选取YVO4:Eu3+为模型来研究结合不同软石印微纳米加工方法和Pechini型的溶胶凝胶法制备发光点阵薄膜的可能性及其光学性能。这是首次在石英基底上通过软石印(Soft Lithography)中的微转移模板法(Microtransfer Molding,μTM)(?)与微接触打印法(Microcontact Printing,μCP)打印出正方形点阵及圆点点阵的YVO4:Eu3+发光薄膜。论文设计这两种不同的实验来探索软石印法(微接触打印、微转移模板法)是否可应用于无机稀土发光材料的点阵打印。因为两种微图案加工方法的过程及原理不同,希望通过这两种不同的微纳米加工路线去制备点阵,来研究最终点阵的微观特征、缺陷、发光性等性质。同时对于微结构制备中的实验参数也进行了细化研究,比如前驱体溶液粘度对点阵形貌的影响;旋涂成膜的转速、时间对点阵形貌的影响；固化温度对点阵形貌的影响等,期望后续的实验及研究具有参考及指导意义。实验选取具有代表性的YVO4:Eu3+荧光粉进行实验。YVo4是一种著名的基质,具有锆石型结构。在这样的结构中,每个V原子处在四个氧原子形成的四面体中心,同时每个Y原子被八个O原子包围,这八个o原子形成两个畸形四面体。其中YVO4:Eu3+是优良的红光材料,已广泛的应用于CRT、LCD、FED显示屏及高压汞灯的制造中,据报道其粉末态荧光粉的量子效率可达70%。传统的显示面板制备是先由固相法制得荧光粉,在将荧光粉涂覆于显示屏上。实验设计是先利用Pechini型溶胶-凝胶法,以无机物为原料,制备YVO4:Eu3+黏性前驱体溶液,再通过Soft Lithography中的微转移模板法和微接触打印法直接用溶胶-凝胶制得的前驱体溶液制备最终的YVO4:Eu3+发光点阵。步骤简单,操作方便,制备周期短,可扩展性大。这两组实验严格在相同的实验条件下进行,比如：相同的前驱体溶液,具有相同微观表面特征的PDMS模板等。在254-nm紫外激发下,通过荧光显微镜看到由两系列不同制备组合得到的不同微观表面特征的红光点阵。通过光学显微镜可获知,在Sol-Gel法与微转移模板法组合下可以得到正方形点阵,而通过Sol-Gel法与微接触打印法组合得到的是圆点点阵。同样通过荧光光谱(PhotoLuminescence, PL)、阴极射线光谱(CathodeLuminescence, CL)、发光衰减(Decay Times)、紫外透过光谱(UV-vis Transmission)、量子效率(Qutanum Efficiency)及发光的色坐标(CIE coordinates)测试来表征两种发光点阵的光学性质。这些结果都表明在制备稀土发光点阵薄膜上,Pechini型的溶胶凝胶过程与软石印法(微转移模板法,微接触打印法)在微／纳米点阵加工领域是一种成功的组合,两种方法有很好的兼容性,这很大程度由于Pechini型的溶胶凝胶可以提供软石印法所需要的理想的前驱体溶液(如：可调的溶液黏度)。这种新颖的制备组合在FED面板的制备,及多种微纳米图案的加工上具有巨大的潜力。我们相信这些实验数据在未来的研究及实验中有很好的指导及参考意义,并且.对从事相应研究的研究人员有很大的帮助。