多层介质膜光栅(MDG)由于具有接近100%的高衍射效率及相对于金属光栅更高的抗激光损伤特性成为脉冲压缩光栅研究的重要方向,但是抗激光损伤能力仍是制约其性能进一步提高的重要因素,因此研究其在短脉冲激光作用下的损伤机理和提高其激光损伤阈值(LIDT)显得尤为重要。本文在分析ns脉冲激光作用下多层光栅膜和MDG的损伤特性的基础上,着重探索了MDG的激光预处理工艺。　　 首先,介绍了MDG损伤实验测试平台及损伤实验操作,通过对MDG制备工艺流程的操作实践和对MDG损伤形貌显微观察,确定了ns脉冲作用下光栅结构内杂质和微结构缺陷是引起MDG损伤的主要因素。　　 其次,在小光斑条件下对光栅膜和MDG进行不同光斑尺寸激光损伤阈值测试实验,发现:在ns脉冲条件下MDG同样存在光斑尺寸,即证明了杂质和缺陷密度分布是ns脉冲下影响MDG阈值测试准确性的重要因素;对MDG进行了S-on-1测试发现,MDG的损伤发展性明显强于多层介质膜,这是由其表面光栅结构特点决定的。　　 最后,在1-on-1和N-on-1实验对比基础上提出并验证了MDG的激光预处理效应。实验表明激光预处埋能够有效减少MDG表面光栅结构区的杂质污染和微结构缺陷,激光处理后MDG阈值能提高到处理前的1.5-2倍,同时不损伤顶层光栅结构。在此基础上进行了预处理工艺的探索,并得到阈值明显提高的样品。证明了激光预处理是提高MDG阈值方法的重要补充。