【摘 要】
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该文首次系统地研究了氮化硅粉料的表面特性对水基浓悬浮体制备和烧结体力学性能的影响.利用漫反射傅里叶变换红外(DRIFT)光谱,系统研究了氮化硅粉料表面存在的各种基团.详细
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该文首次系统地研究了氮化硅粉料的表面特性对水基浓悬浮体制备和烧结体力学性能的影响.利用漫反射傅里叶变换红外(DRIFT)光谱,系统研究了氮化硅粉料表面存在的各种基团.详细研究和探讨了氮化硅粉料的表面特性对水中分散特性的影响及其水基浓悬浮体制备的问题.对于以Y<,2>O<,3>和Al<,2>O<,3>为烧结助剂的体系,首次研究了氮化硅粉料表面氧含量对氮化硅陶瓷的晶界相含量和组成、显微结构以及烧结体力学性能的影响.研究发现,由于烧结助剂中的O和Si在烧结过程还原气氛下的损失,使得烧结体中晶界相的含量明显低于烧结助剂的加入量.氮化硅陶瓷的常温抗折强度在较大范围内对粉料表面氧含量不敏感,而高温抗折强度(1200℃)和粉料表面氧含量的关系中有一最佳值,此时晶界相组成对应于高的N含量和N:Si摩尔比.研究还发现,粉料的表面氧含量低于某一值时,烧结体中存在α和βY<,2>Si<,2>O<,7>的析晶相;当氧含量超过该值时,没有析晶相出现.
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