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研究了磁场对TEMP-6外磁绝缘型强流脉冲离子源特性的影响。无外加磁场时,磁绝缘表征参数导流系数P在二极管中等离子体产生后随时间迅速增大,等离子体快速扩展,导致二极管短路,无离子束输出。随着外加磁场强度从1.1Bcrit增加到1.7Bcrit,导流系数P随时间缓慢增大,等离子体的扩展得到有效地抑制,相应二极管电流减小,而束流密度、离子流和离子流产生效率增大,当外加磁场强度进一步增大到2 Bcrit,二极管电流,束流密度和离子流均减小,而离子流产生效率与磁场强度为1.7 Bcrit条件相近。在外加磁场强度为1.7 Bcrit时,获得适用于材料表面改性的离子源优化的工作参数为:二极管峰值电压为420kV,离子加速电压为350kV,二极管电压脉冲宽度为70ns（FWHM）,二极管电流为37kA,离子束流密度为350A/cm2,离子流约为11kA和离子流产生效率约为30%。 采用EB-PVD方法沉积热障涂层,其粘结层为NiCoCrAlY,陶瓷层为7wt%Y2O3部分稳定的ZrO2（YPSZ）,其表层为单一的四方（t）ZrO2相,其表层比较致密,但有一定的粗糙度,表面存在一些凸出来的斑点状ZrO2柱状晶,柱状晶粒簇拥成团,团簇间存在间隙。经强流脉冲离子束辐照,其陶瓷层相结构不变;表面柱状晶特征消失,出现典型的熔融形貌,表面光滑化,顶层间隙被重熔填实,形成微米厚致密封顶层。在1050℃×1h循环氧化条件下,经HIPIB辐照热障涂层与原始样相比,仅有少数区域观察到比较严重的氧化和少部分氧化物伸入到粘结层内,形成TGO的氧质量百分比含量约低12%,与其氧化动力学曲线反映的经辐照样粘结层氧化速率低于原始样结果一致。经辐照样,陶瓷层顶层形成微米厚致密封顶层,使氧难以穿透陶瓷层,导致陶瓷层/粘结层界面氧的活性降低,从而降低了粘结层氧化速率,使辐照样抗氧化性能优于原始EB-PVD热障涂层。