疏水性半导体量子点的二氧化硅修饰及其应用

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由于纳米量子点杰出的特性使得制备高质量的量子点的方法得到了快速的发展,尤其是采用有机溶液合成法可以制备出多种高量子效率的量子点。为了使量子点在相关的领域具有更好的应用性能,须对亲油性(疏水性)的量子点进行适当的表面修饰。本论文的主要工作就是采用硅烷试剂对疏水性量子点进行表面修饰研究,并把修饰后的量子点均匀分散到二氧化硅基体中去,为其作为发光材料应用进行了探索。本论文主要开展了以下的工作:(1)疏水性量子点的二氧化硅表面修饰研究使用原硅酸四乙酯(TEOS)、3-氨基丙基三甲氧基硅烷(APS)和3-巯基
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