Al掺杂ZnO薄膜制备工艺研究

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Al掺杂ZnO薄膜(AZO)是一种新型的透明导电薄膜,具有广泛应用前景。采用高密度AZO靶材用RF磁控溅射法在玻璃衬底上制备出AZO薄膜样品,研究了镀膜时间、靶衬距、Ar气压强、溅射功率、衬底温度等制备工艺对薄膜的电阻率、透过率及薄膜结构的影响,并进一步优化工艺参数,制备出性能优良的AZO薄膜;针对AZO薄膜性能上和应用中存在的问题,从复合薄膜的角度对膜系进行了一些改进尝试。具体如下:1、氩气压强小于0.8Pa时方阻在10--20Ω/□范围内,变化很小;当压强增大到0.8Pa以后,方阻迅
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