LCoS空间光调制器,尤其是纯相位调制型LCoS空间光调制器,因为能够灵活、方便的调制光波波前,在光通信、数字全息、微观光学等领域具有极其重要的应用,是波长选择开关(WSS)、无掩模光刻系统、全息光镊系统的核心元件。高分辨率LCoS空间光调制器制备工艺的优化以及电光特性的研究具有重要的应用价值。本论文以纯相位调制型高分辨率LCoS空间光调制器为研究对象,研究内容主要包括以下三个方面:1、纯相位调制型LCoS空间光调制器的器件样品制备与特性测试。分析对比了几种液晶工作模式实现纯相位调制的优缺点,确定使用ECB模式作为纯相位调制工作模式。将光取向技术应用到LCoS器件的制备当中,并对实验室条件下LCoS器件的制备工艺进行了改进,成功地制备了工作波长为可见光波段532nm和近红外波段1550nm的纯相位调制型LCoS器件样品。搭建测试系统,对器件样品的相位调制量和响应时间进行了测量,相位调制量满足实际应用需求。2、从液晶分子像素级精度的取向排列角度对改善高分辨率LCoS器件边缘场效应进行了仿真研究。设计了一种相邻像素预倾角反向的ECB工作模式,并分析了该工作模式下器件的边缘场效应。结果显示,该工作模式抑制了目标像素两侧相邻像素的边缘场效应,但增强了其它各像素的像素边缘的边缘场效应。该模式需要结合其他因素去进一步优化。3、研究了基于光取向技术的LCoS器件屏外取向制备工艺。使用屏外光取向工艺制备了液晶盒样品,并对样品的预倾角进行了测量,分析了屏外光取向制备工艺对预倾角的影响,为屏外取向新工艺的应用奠定基础。