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空间光学系统对SiC反射镜的表面加工质量要求非常严格。SiC反射镜通常采用化学机械抛光方法进行最后的镜面加工，但抛光后存在表面和亚表面损伤层，反射镜的光学质量、使用寿命和长期稳定性受影响。本论文报道了SiC单晶的化学蚀刻的微观行为及表面清洗前处理探索研究，为SiC无表面损伤层抛光技术的研究提供理论指导。SiC单晶的表面清洗研究中用接触角仪、XPS和原子力显微镜研究了一系列清洗方法的SiC表面污染物去除效果，获得了不同单晶样品的优化清洗方法。发现刚拆封的单晶原片适用硫酸和双氧水以3:1比例混合的混合液（SPM）单步清洗处理，拆封暴露放置后的单晶适用实验用清洗剂刷洗和SPM两步处理，HF浸泡后的单晶适用清洗剂刷洗和超声以及SPM三步处理。研究结果对后续蚀刻处理和表面结构表征奠定了基础。SiC单晶的化学蚀刻研究中对比研究了Pt接触化学蚀刻、非Pt接触化学蚀刻行为和各种浸泡液以及浸泡时间的作用。首先，发现Pt丝直接接触、Pt粉接触和表面镀纳米Pt粒子三种体系中，Pt粉接触和Pt丝接触导致局部产生蚀坑和台阶溶解，蚀刻严重程度与HF浓度和浸泡时间有关，其它溶液无蚀刻作用。HF浓度越大，单晶表面蚀刻越明显；随着浸泡时间的增长，单晶表面形貌逐渐变化直至出现蚀刻小坑；Pt粉接触更适合定位研究，而表面镀纳米Pt粒子无蚀刻作用。Pt粉蚀刻中发现单晶表面出现的蚀刻小坑形状大小不一，与Pt粒子表面形貌有关；其次，发现单晶在HF和其它溶液中与Au粉和Ag粉接触不发生蚀刻。研究结果对Pt促进SiC表面蚀刻的宏观现象提供了微观观察证据，也为后续无损伤层抛光研究奠定了基础。本文对SiC单晶表面清洗的研究为单晶表面性质以及表面处理研究提供了简单易行的前处理方法；对SiC单晶的化学蚀刻研究从微观上表征了在重金属Pt作用下单晶表面的形貌变化，为SiC材料抛光技术的进一步研究奠定了基础。