【摘 要】
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为澄清多靶磁控溅射纳米多层膜时组元选择及基片运动特征对纳米多层结构的形成及调制周期的影响规律,本文利用几何分析获得了利用拨片式二轴回转样品架溅射沉积多元复合镀层时靶基相对运动规律的数学描述,通过炉内静态沉积试验与回归分析相结合的方法,得到了单靶溅射时Cr、Al、Cu等纯元素空间沉积率的定量描述。在此基础上,基于多靶互不影响及不同组元间互不扩散、化合的简单假设,建立起多靶溅射二元复合镀层时纳米调制结
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为澄清多靶磁控溅射纳米多层膜时组元选择及基片运动特征对纳米多层结构的形成及调制周期的影响规律,本文利用几何分析获得了利用拨片式二轴回转样品架溅射沉积多元复合镀层时靶基相对运动规律的数学描述,通过炉内静态沉积试验与回归分析相结合的方法,得到了单靶溅射时Cr、Al、Cu等纯元素空间沉积率的定量描述。在此基础上,基于多靶互不影响及不同组元间互不扩散、化合的简单假设,建立起多靶溅射二元复合镀层时纳米调制结构形成的简单堆叠模型,通过与实测镀层纳米多层结构的调制周期进行比较验证,形成了对不同基片运动特征、组元选
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